반도체/디스플레이 제조 공정에 이용되는 가스의 흐름 감지 및 제어하는 장치 MFC(Mass Flow Controller)에 의해 제어되는 다음 단의 파이널밸브(Final Valve)와 챔버사이의 가스관에 압력센서를 부착시켜, 압력센선의 신호와 공압밸브의 동작신호를 디지털 회로를 이용하여 실시간의로제어하고, 반도체 제조 공정 중에 발생할 수 있는 2차 소성물로 인한 가스의 흐름제어와 관련된 시스템 고장을 LED를 통해 실시간으로 확인가능 함과 동시에,고장 발생 시, 반도체 제조 공정의 프로세스를 중단시켜 장비의 손상 및 안전사고를 예방할 수 있다.
